이 회장은 1937년 서울 출생으로 경기고와 서울대 화학공학과를 졸업했다. 1962년 대한사진화학에 입사해 사회생활을 시작했으나 1966년 자택 연탄창고에서 동진쎄미켐의 전신인 ‘동진화학공업’을 세우며 경영자의 삶을 시작했다.
동진화학공업은 발포제 개발을 시작해 해당 분야 세계 1위로 올랐다. 1980년 거래처 부도로 법정관리에 들어가기도 했으나 이 회장은 3년 만에 회사 정상화에 성공했다.
반도체 공정 핵심 소재인 포토레지스트(PR) 개발은 1989년 성공했다. PR은 웨이퍼에 반도체 회로를 그리는 노광공정에 필요한 핵심 소재다. 한국은 미국, 독일, 일본에 이어 세계 네 번째로 PR 개발에 성공했다. 동진쎄미켐은 1994년부터 삼성전자에 PR 납품을 시작했다.
동진쎄미켐은 2019년 일본 반도체 부품 수출 규제 조치에 맞서 이뤄진 PR 국산화 주역이기도 하다. 2022년 최선단 공정에서 사용되는 극자외선(EUV) PR 일부를 국산화하는 성과를 냈다. 사실상 일본이 독점하는 소재인데 국산화 확대 가능성을 확인했다.
동진쎄미켐은 2023년 차세대 노광 공정에 필요한 하이 뉴메리컬어퍼처(NA) EUV PR 개발에도 착수했다. 세계적으로 강화되는 과불화화합물(PFAS) 관련 환경 규제 정책에 대응해 2030년까지 모든 PR 제품군을 PFAS을 포함하지 않는 형태로 개선할 예정이다.
동진쎄미켐이 기술 혁신을 지속할 수 있었던 배경에는 이 회장의 추진력과 결단이 있었다. 이 회장은 1967년 10월부터 전날까지 57년 4개월간 대표를 맡아 경영활동을 펼쳐왔다. 회사 경쟁력 제고를 위해 원천 기술 개발을 가장 중요시했다고 알려졌다.
이 회장 빈소는 연세대 신촌세브란스 장례식장이다. 발인은 3월 1일 진행하며, 장지는 경기도 양평군 양서면 도곡리 선영이다.
박진형 기자 jin@etnews.com
